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        尼康工具顯微鏡
        
                
        簡(jiǎn)要描述：MM-400尼康顯微鏡是尼康面向??工業(yè)檢測(cè)??領(lǐng)域推出的精密測(cè)量顯微鏡，在MM-200基礎(chǔ)上升級(jí)了??測(cè)量精度??和??系統(tǒng)擴(kuò)展性??，特別適用于??半導(dǎo)體封裝、精密模具??等微米級(jí)檢測(cè)場(chǎng)景。
        
                
          
                    
        • 產(chǎn)品型號(hào)：MM-400
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        • 廠商性質(zhì)：代理商
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        • 更新時(shí)間：2025-06-12
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        • 訪  問(wèn)  量：3762
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        詳細(xì)介紹
        
                
        

                
        
                	
                    
        
                        
                            
                                
        品牌Nikon/日本尼康價(jià)格區(qū)間面議
        產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣
        
                            
                                
                    
        
                
        
                
        
                   
        　　尼康工具顯微鏡MM-400用于生產(chǎn)車間、計(jì)量檢測(cè)室的產(chǎn)品零件尺寸檢測(cè),是一臺(tái)數(shù)字化測(cè)量顯微鏡。系統(tǒng)支持一組新的擴(kuò)展接口-尼康的電子連接HUB，用來(lái)連接尼康新的E-MAX測(cè)量軟件，可接數(shù)據(jù)處理器或測(cè)量軟件E-MAX(其中DS套需配CCD，支持視象測(cè)量)。
         
        　　尼康工具顯微鏡MM-400采用LED照明，計(jì)數(shù)器有雙軸和三軸兩種，根據(jù)鏡筒、照明裝置、升降機(jī)構(gòu)、物鏡，以及對(duì)焦機(jī)構(gòu)的選擇不同，有M、T、LT、LMT、LFA、LMFA、U、LU、LMU等多種子型號(hào)可供用戶選擇。
         
        　　另外也可以選擇搭配AutoFocuse系統(tǒng)及FocusingAid(對(duì)焦輔助)這次NIKON光學(xué)系統(tǒng)采用目前*的裂像的方法來(lái)輔助操作員來(lái)達(dá)到對(duì)焦判定可有效降低認(rèn)為的測(cè)定誤差，提升測(cè)量精度。
         
        　　MM-800工具顯微鏡可以搭載12X8(300X200mm)超大載物臺(tái),實(shí)現(xiàn)大工件測(cè)量變?yōu)榭赡堋?br /> 
        　　MM-400工具顯微鏡是MM-800的小機(jī)型,它只可以搭載2X2(50X50mm)03L(100X50mm)4X4(100X100mm)6X4(150X100mm)四種測(cè)量載物臺(tái)同MM-800一樣也是采用*的LED來(lái)替代以前鹵素光來(lái)照明,發(fā)光均勻又減小了因?yàn)辂u素光照明帶來(lái)的熱脹的測(cè)量誤差,并且可以選配8段式可控LED外掛光源,解決了有些拐邊死角的測(cè)量。
         
        　　典型應(yīng)用場(chǎng)景??：
         
        　　1??、半導(dǎo)體封裝檢測(cè)??
         
        　　焊球間距測(cè)量(BGA封裝)
         
        　　引線框架共面性分析
         
        　　芯片貼裝位置偏差檢測(cè)
         
        　　2、??精密模具驗(yàn)收??
         
        　　型腔輪廓度測(cè)量
         
        　　表面紋理分析(Ra≤0.05μm)
         
        　　頂針位置度驗(yàn)證
         
        　　??3、科研領(lǐng)域??
         
        　　MEMS器件形貌表征
         
        　　微流控芯片尺寸標(biāo)定
         
        對(duì)焦完成狀態(tài)
         
        還未*對(duì)焦清楚狀態(tài)
         
        還未*對(duì)焦清楚狀態(tài)
         
         
                
        
                
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